Sensofar白光干涉儀：高分辨表面形貌測(cè)量

產(chǎn)品概述

Sensofar白光干涉儀采用非接觸式光學(xué)測(cè)量技術(shù)，適用于微納米級(jí)表面形貌分析，可滿足半導(dǎo)體、精密制造、材料科學(xué)等領(lǐng)域的高精度檢測(cè)需求。

核心性能

• •測(cè)量范圍：垂直分辨率達(dá)0.1nm，橫向分辨率1μm

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• •多模式檢測(cè)：支持白光干涉（WLI）、共聚焦（CLI）、聚焦變化（FVI）

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• •快速掃描：高速采集數(shù)據(jù)，減少測(cè)量時(shí)間

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• •大視野兼容：適配不同放大倍率物鏡，支持小區(qū)域至大面積掃描

用材與結(jié)構(gòu)

• •光學(xué)系統(tǒng)：高穩(wěn)定性干涉鏡頭，減少環(huán)境干擾

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• •樣品臺(tái)：精密電動(dòng)載物臺(tái)，定位精度高

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• •軟件分析：內(nèi)置3D形貌重建、粗糙度計(jì)算、臺(tái)階高度分析等功能

參數(shù)表

主要用途

• •半導(dǎo)體晶圓表面缺陷檢測(cè)

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• •MEMS器件三維形貌分析

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• •精密光學(xué)元件面型測(cè)量

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• •材料表面粗糙度與臺(tái)階高度表征

使用說(shuō)明

1.樣品準(zhǔn)備：確保表面清潔，避免強(qiáng)反射干擾測(cè)量。

2.模式選擇：根據(jù)樣品特性選用WLI、CLI或FVI模式。

3.參數(shù)設(shè)置：調(diào)整掃描范圍、分辨率及物鏡倍率。

4.數(shù)據(jù)分析：通過(guò)軟件生成3D形貌圖并導(dǎo)出測(cè)量報(bào)告。

Sensofar白光干涉儀以靈活的測(cè)量模式和穩(wěn)定的性能，助力科研與工業(yè)檢測(cè)。如需技術(shù)演示或定制方案，歡迎聯(lián)系支持。Sensofar白光干涉儀：高分辨表面形貌測(cè)量